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熱顯微鏡TM3對薄膜熱射流率的測試分析隨著電子及微電子器件日益呈現(xiàn)小型化、薄型化和多功能集成化的發(fā)展特點，電子產(chǎn)品的運行功率和布線密度大幅增加，使得電子元器件、集成電路在單位體積內產(chǎn)生的熱量急劇上升。由此引起的熱堆積現(xiàn)象愈發(fā)嚴重，導致電路傳...

多孔金屬材料的熱導率測量方法分析導熱系數(shù)作為材料最重要的熱物性參數(shù)，在航空航天、微電子技術、能源有效利用、核能技術、新材料開發(fā)等高新技術領域，以及石油化工、鋼鐵冶金、建筑節(jié)能、制冷空調等工業(yè)領域具有重要的工程應用價值，其參數(shù)值的準確測量起著...

ditect小型高清高速攝像機HAS-U2產(chǎn)品介紹這是一款手掌大小的高清5.3兆像素高速相機，兼容“USB3.0高速接口”。它有兩種使用方式：作為使用內置2GB記錄存儲器的“記憶相機”，以及使用高速串行總線的“圖像采集卡相機”，實際傳輸速度...

碳鍍膜機與高真空蒸發(fā)設備的區(qū)別碳鍍膜機主要分為僅有旋轉泵排氣的設備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設備。了解高真空蒸發(fā)設備性能的差異在選擇設備時非常有用。旋轉泵排氣氣相沉積設備VC-300S/W、VES-10高真空抽真空沉積設備VE-2013、VE...

鋨鍍膜機HPC-20設備安裝及工作空間教導鋨鍍膜機是一種將四氧化俄晶體升華的鋨氣體充滿腔室，使用等離子體電離鋨，并對樣品進行鍍膜的裝置。鋨等離子鍍膜機具有優(yōu)異的包覆性，而且由于是非晶態(tài)，因此沒有顆粒狀，顆粒非常細小，使得在FE-SEM等電子...

關于磁控濺射設備MSP-8in推薦實用程序該裝置是使用磁控管靶的金屬鍍膜裝置。用于8英寸晶圓等大面積樣品，以及多個樣品的同時處理。MSP-8in的靶電極沿靶金屬表面形成多個同心磁場，通過捕獲該磁場中的電子，提高濺射靶金屬的等離子體離子密度。...

磁控濺射設備MSP-1S濺射金屬粒子的比較分析該設備專用于貴金屬薄膜鍍膜，用于SEM觀察。這是一種用貴金屬涂覆SEM樣品以防止充電并提高二次電子產(chǎn)生效率的裝置。除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，還將樣品臺制成浮動式，以減少電子束流入對樣品...

關于shinkuu射頻濺射的說明什么是射頻濺射？RF濺射是一種使用稱為RF（射頻）的高頻帶電源的濺射方法。它常被用作直流濺射無法進行的絕緣靶材的濺射電源。盡管可以濺射各種靶材，但它往往比直流濺射源更昂貴，因為它需要安裝射頻匹配單元等。本頁面...

什么是護理食品檢測技術？“CF-200N”系列基于2021年吞咽調節(jié)食品分類。（2021年社會分類）通用設計引擎蓋（UDF）標準容易地可以確定護理食品檢測儀（質構分析儀）是。2021年吞咽調節(jié)食品分類（2021年社會分類）2021年學術團體...

晶圓拋光晶片拋光過程中旋轉工作臺的平面度檢測設備推薦在半導體制造設備的晶片拋光過程中，需要保持裝有晶片的上板和鋪有拋光布的旋轉工作臺（下板）的平面度。如果出現(xiàn)問題，晶圓就會厚度不均勻，不平整，無法進行均勻的拋光。此外，曝光期間圖像也會失焦。...