日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

產(chǎn)品型號(hào)：

所屬分類：傳感器

產(chǎn)品時(shí)間：2025-05-03

簡(jiǎn)要描述：日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO
*yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng)：光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。

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日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

STIL DUO ---雙重技術(shù)“點(diǎn)”傳感器

Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng)：光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測(cè)量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測(cè)量，在任何類型的材料上都可獲得非常高的精que度，無論是反射還是散射。測(cè)量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。
Ø STIL的共焦光譜干涉測(cè)量法，可獲得亞納米分辨率（<1nm）的厚度和形貌測(cè)量結(jié)果，可在大于100µm的測(cè)量范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量，且樣品的小可測(cè)厚度為0.4µm。
Ø 完美適用于工業(yè)環(huán)境，許多輸入和輸出以及軟件開發(fā)套件，接口非常簡(jiǎn)單。?

1. l 白光光譜干涉模式

- 振動(dòng)不敏感（OPILB-RP光學(xué)筆）

- 高信噪比（OPILB-RP光學(xué)筆）

- 不需垂直掃描

- 小可測(cè)厚度0.4µm

- 光學(xué)原理固有的亞納米分辨率

- 共焦使相鄰點(diǎn)之間無干擾，

- 厚度測(cè)量上具有卓yue性能（0.3nm分辨率，10nm精度

1. l 光譜共聚焦模式

- 使用Multipeak軟件進(jìn)行多層樣品測(cè)量

日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

參數(shù)

Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測(cè)量技術(shù)的系統(tǒng)：光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測(cè)量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測(cè)量，在任何類型的材料上都可獲得非常高的精que度，無論是反射還是散射。測(cè)量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。