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EX-851 膜厚儀:覆蓋多領(lǐng)域的精密測量利器及其優(yōu)勢

發(fā)布時間:2025-09-13 點擊量:26
一、DENSOKU 瑩光 X 射線膜厚儀 EX-851適用行業(yè)
(一)電子制造行業(yè)
在電子元器件生產(chǎn)中,從微小的芯片到復(fù)雜的電路板,各類薄膜、鍍層的厚度對產(chǎn)品性能影響重大。例如,芯片引腳的鍍金層厚度關(guān)乎電信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性與可靠性,若厚度不均或不達標(biāo)準(zhǔn),可能引發(fā)接觸電阻增大、信號衰減甚至短路等問題。EX - 851 憑借其高精準(zhǔn)度,能夠?qū)﹀兘饘?、鍍銀層以及各類絕緣薄膜等進行精確測量,幫助企業(yè)嚴格把控生產(chǎn)工藝,確保電子元器件的高質(zhì)量產(chǎn)出。在印刷電路板(PCB)制造過程中,阻焊層、銅箔厚度等參數(shù)的精確測量對于保障電路板的電氣性能和使用壽命至關(guān)重要,EX - 851 可以為 PCB 生產(chǎn)企業(yè)提供可靠的數(shù)據(jù)支持,助力生產(chǎn)流程優(yōu)化。
(二)半導(dǎo)體行業(yè)
半導(dǎo)體制造堪稱現(xiàn)代科技的核心領(lǐng)域,其對薄膜厚度控制精度的要求近乎苛刻。芯片制造工藝中的光刻、蝕刻、鍍膜等環(huán)節(jié),每一步都依賴于對薄膜厚度的
準(zhǔn)掌握。光刻膠薄膜厚度的細微偏差可能導(dǎo)致芯片電路圖案的精度受損,進而影響芯片的性能和成品率。EX - 851 能夠滿足半導(dǎo)體制造過程中對不同材質(zhì)薄膜(如二氧化硅、氮化硅、金屬薄膜等)厚度的高精度測量需求,為半導(dǎo)體企業(yè)的工藝研發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)提供關(guān)鍵的測量保障,助力推動半導(dǎo)體技術(shù)向更高集成度、更小尺寸方向發(fā)展。
(三)汽車制造行業(yè)
汽車制造涉及眾多零部件的生產(chǎn)與組裝,表面涂層和鍍層在提升零部件耐腐蝕性、耐磨性以及美觀度等方面發(fā)揮著重要作用。汽車車身的電泳涂層厚度決定了車身的防銹能力,而輪轂、發(fā)動機零部件等表面的鍍鉻層、鍍鋅層厚度則影響著其耐磨性能和外觀質(zhì)量。EX - 851 可用于汽車生產(chǎn)線上對各類零部件涂層、鍍層厚度的在線檢測或抽檢,確保每一輛汽車的品質(zhì)符合高標(biāo)準(zhǔn),延長汽車零部件的使用壽命,提升整車的可靠性和安全性。
(四)航空航天行業(yè)
航空航天領(lǐng)域?qū)α悴考馁|(zhì)量和性能要求高,任何微小的瑕疵都可能引發(fā)嚴重后果。飛行器的發(fā)動機葉片、起落架等關(guān)鍵部件,通常會采用特殊的涂層來提高其耐高溫、耐磨損和抗腐蝕性能。這些涂層的厚度必須嚴格控制在規(guī)定范圍內(nèi),以確保部件在極工況下的可靠運行。EX - 851 的高精度測量能力能夠為航空航天企業(yè)在零部件制造和維護過程中,準(zhǔn)確測量各類涂層厚度,為航空航天產(chǎn)品的質(zhì)量和安全提供堅實保障,助力飛行器在高空、高速、高溫等惡劣環(huán)境下穩(wěn)定飛行。
(五)光學(xué)鍍膜行業(yè)
光學(xué)鍍膜廣泛應(yīng)用于光學(xué)鏡片、相機鏡頭、顯示屏等產(chǎn)品中,旨在改善光學(xué)元件的光學(xué)性能,如增透、減反、分光等。不同光學(xué)功能的實現(xiàn)依賴于精確控制鍍膜的層數(shù)和每層薄膜的厚度。例如,相機鏡頭上的多層光學(xué)鍍膜,其厚度精度需達到納米級別,才能有效減少光線反射,提高成像質(zhì)量。EX - 851 能夠精確測量光學(xué)鍍膜的厚度,幫助光學(xué)產(chǎn)品制造商優(yōu)化鍍膜工藝,生產(chǎn)出更高性能的光學(xué)產(chǎn)品,滿足消費者對于高清、高畫質(zhì)光學(xué)設(shè)備的需求。
(六)五金裝飾行業(yè)
在五金裝飾產(chǎn)品(如門把手、衛(wèi)浴五金、燈具等)的生產(chǎn)中,為提升產(chǎn)品的美觀度和耐用性,常采用電鍍、噴漆等表面處理工藝。鍍層或涂層的厚度不僅影響產(chǎn)品的外觀色澤和質(zhì)感,還關(guān)系到其抗腐蝕能力和使用壽命。EX - 851 可幫助五金裝飾企業(yè)在生產(chǎn)過程中,對各類表面處理層的厚度進行精準(zhǔn)測量,確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,提升產(chǎn)品在市場上的競爭力,為消費者提供美觀且耐用的五金裝飾產(chǎn)品。
二、DENSOKU 瑩光 X 射線膜厚儀 EX - 851 產(chǎn)品優(yōu)勢
(一)測量精度高
EX - 851 采用先進的熒光 X 射線技術(shù),能夠精準(zhǔn)探測材料表面膜層對 X 射線的吸收、散射和熒光發(fā)射特性,通過復(fù)雜而精確的算法,將這些物理信號轉(zhuǎn)化為極其準(zhǔn)確的膜層厚度數(shù)據(jù)。其測量精度可達微米甚至納米級別,滿足了眾多對膜厚精度要求苛刻的行業(yè)需求,如半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域。無論是極薄的納米級薄膜,還是較厚的涂層,EX - 851 都能提供高精度的測量結(jié)果,為產(chǎn)品質(zhì)量控制和工藝優(yōu)化提供可靠依據(jù)。
(二)測量模式多樣
該儀器具備自動和手動兩種測量模式,可根據(jù)實際測量場景和需求靈活切換。在全自動對焦模式下,用戶只需使用激光指示器將測量部件定位在指定位置,關(guān)閉儀器門后,測量平臺便會自動移動至測量點并執(zhí)行測量操作,測量完成后,平臺還會自動返回初始位置,整個過程高效便捷,大大提高了批量測量的工作效率。半自動對焦模式則在定位測量對象后,關(guān)閉門時平臺自動移動并聚焦,直至完成測量操作,這種模式適用于對測量過程有一定手動干預(yù)需求的場景,為用戶提供了更多操作選擇。
(三)自動測量功能強大
EX - 851 配備了自動測量階段功能,用戶通過鼠標(biāo)即可快速將測量位置定位,極大地提高了測量定位的速度。若提前注冊測量位置,儀器便可進行連續(xù)自動測量,尤其適用于對多個相同或相似部件進行膜厚測量的場景,可大幅減少人工操作時間,提高測量效率。此外,該儀器還支持坐標(biāo)校正和通道鏈接等功能,能適應(yīng)各種復(fù)雜的測量模式,并且標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)也可實現(xiàn)自動測量,進一步簡化了測量流程,降低了人為誤差。
(四)采用雙濾波器確保最佳測量條件
為始終獲取最高精度的測量結(jié)果,EX - 851 除采用數(shù)字濾波器外,還創(chuàng)新性地引入了機械濾波器(雙濾波器)。這兩種濾波器相互配合,能夠根據(jù)不同的測量對象和環(huán)境,自動調(diào)整至最佳測量條件,有效去除測量過程中的干擾信號,提高測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。無論是在實驗室環(huán)境下的精細測量,還是在工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場的復(fù)雜環(huán)境中,雙濾波器的應(yīng)用都能確保儀器輸出可靠的測量結(jié)果。
(五)報告創(chuàng)建功能豐富且便捷
儀器采用 MS - Windows 軟件系統(tǒng),使得用戶能夠輕松捕獲測量屏幕畫面,并對測量數(shù)據(jù)進行高效處理和分析。其報告創(chuàng)建功能得到了極大增強,用戶可根據(jù)實際需求,快速生成包含測量數(shù)據(jù)、圖表、分析結(jié)果等豐富信息的專業(yè)報告。同時,多任務(wù)功能允許用戶在測量過程中同步進行報告創(chuàng)建等其他操作,大大提高了工作效率,方便企業(yè)對測量數(shù)據(jù)進行管理和存檔,滿足質(zhì)量追溯和生產(chǎn)流程優(yōu)化的需求。
(六)內(nèi)置多種準(zhǔn)直器滿足不同測量需求
EX - 851 內(nèi)置了 5 種不同規(guī)格的準(zhǔn)直器,最小部分可達 0.1φmm,能夠輕松實現(xiàn)對極小部件的膜厚測量,滿足了電子制造、半導(dǎo)體等行業(yè)中對微小零部件測量的特殊需求。除標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格外,還提供兩種特殊規(guī)格的準(zhǔn)直器供用戶選擇,分別為 “0.05, 0.1, 0.2, 0.3, 0.5" 和 “0.05×0.5, 0.5×0.05, 0.1, 0.2, 0.5",用戶可根據(jù)具體測量對象的尺寸和形狀,靈活選用合適的準(zhǔn)直器,拓寬了儀器的測量適用范圍,提高了測量的靈活性和針對性。
(七)具備自診斷與維護功能保障設(shè)備穩(wěn)定運行
儀器內(nèi)置了強大的自診斷功能,能夠?qū)崟r監(jiān)測設(shè)備的運行狀態(tài),一旦檢測到設(shè)備故障或異常情況,可迅速進行故障分析并給出相應(yīng)的解決方案,幫助用戶及時處理問題,減少設(shè)備停機時間。同時,該儀器還增加了顯示 X 射線管使用時間和耐久時間的功能,為設(shè)備維護提供了重要參考依據(jù),方便用戶提前安排 X 射線管的更換等維護工作,有效保障了設(shè)備的長期穩(wěn)定運行,降低了設(shè)備維護成本和生產(chǎn)中斷風(fēng)險。
(八)可直觀顯示測量相關(guān)信息
在薄膜厚度測量過程中,EX - 851 能夠通過多通道頻譜分析的高速處理,在約 2 - 3 秒的極短時間內(nèi),以簡單操作實現(xiàn)被測對象的頻譜顯示,幫助用戶直觀了解測量對象的材料特性和膜層結(jié)構(gòu)信息。此外,儀器可將 X 射線照射單元導(dǎo)入 Windows 屏幕進行顯示,并具備放大倍率變化功能,用戶可通過準(zhǔn)直器改變顯示尺寸,清晰觀察測量部位的細節(jié)。同時,利用 3D 圖形顯示技術(shù),能夠讓用戶一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布情況,為全面評估膜層質(zhì)量提供了直觀、豐富的數(shù)據(jù)可視化方式。


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