電子顯微鏡樣品導電薄膜制造裝置-鋨等離子體鍍膜機

用鋨離子鍍膜 機電鏡觀察 　解決您的難題！ 　它對于防止充電、減少顆粒感和熱損傷非常有效。

 概述

鋨等離子鍍膜機是一種主要用于SEM樣品的導電薄膜生產(chǎn)裝置，采用“使用直流輝光放電的負輝光相區(qū)域的等離子成膜方法"。導電鋨薄膜可以使用獲得的直流等離子體CVD方法形成（在負輝光相區(qū)域內成膜）。自動操作允許任何人安全地沉積鋨薄膜并具有良好的再現(xiàn)性。 該產(chǎn)品陣容包括鋨薄膜專用型號和配備使用萘的等離子聚合膜機構的兩用型號。可選配超薄膜形成機構、親水處理機構、深樣品機構，支持各種應用。 此外，除了傳統(tǒng)的開關型外，鋨薄膜型號的產(chǎn)品陣容中還新增了觸摸屏型。

 原則

 與其他方法的比較

◆關于鋨薄膜 ?無粒度 - 人類淋巴細胞 鋨涂層 放大倍數(shù)：50,000x 濺射鍍膜 (Pt-Pd) 放大倍數(shù)：50,000x 　由于鋨薄膜是非晶態(tài)的，沒有顆粒感，可以清晰地拍攝樣品表面。 　濺射涂層樣品顯示出顆粒狀。 ? 良好的環(huán)繞性 - 抗破洞 鋨涂層 放大倍數(shù)：50,000x 非拍攝 放大倍率：50,000x 　通過將氧化鋨氣化后成膜，即使是凹凸區(qū)域，也能夠以良好的覆蓋率進行涂敷。 　無需充電即可拍攝清晰的照片。 ?無熱損傷-硝酸安 鋨涂層 ↓ 放大倍數(shù)：1,000x 金沉積法 ↓ 放大倍數(shù)：2,000x 　沒有加熱的過程，可以在室溫下成膜，因此對樣品沒有熱損傷。 　經(jīng)過金蒸發(fā)預處理的樣品因熱損傷而出現(xiàn)裂紋。 ?金屬鋨的熔點 　高達2,700℃， 不會被電子束損壞，是一種極其堅固的薄膜。 ?無污染（在鋨離子氣氛中形成的膜） ◆關于等離子聚合膜（萘制碳氫化合物膜） ?韌性（應用于FIB） 　這是一種堅韌的膜，可以承受FIB中使用的鎵離子。 ?耐熱性? 絕緣性 ?無顆粒感（碳氫化合物等離子聚合膜是無定形的） ?良好的包裹性（萘氣化后形成膜） ?無熱損傷（無加熱過程，（在室溫下形成膜） ?無電子束損傷

 應用