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半導體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

發(fā)布時間:2023-07-21 點擊量:881

半導體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

特點

光刻是半導體制造過程中不可少的工藝之一。

晶圓被光刻膠,然后進行蝕刻和摻雜過程。

NLT3-591nm系列以光刻膠不反應的波長發(fā)光,使其適用于光刻前后工藝中的設備照明,這是一種半導體制造工藝。

應用示例

半導體設備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等

規(guī)范

發(fā)光二極管波長591納米
預期壽命工作溫度 40°C 40,000 小時
* 壽命是照度為初始照度的 70% 時
工作溫度-10°C~40°C(但不凍結(jié))
防護等級IP65 防護等級
電源線3 米 (AWG26x2C)
選擇安裝磁鐵 (ND-P03)











標準型號列表

繪圖總光通量照度(1米)權(quán)力功耗
NLT3-10-直流-S(591納米)。.PDF 300 流明80 lx直流24V3.8瓦
NLT3-20-直流-S(591納米)。.PDF 610 流明160 lx8W
NLT3-30-直流-S(591納米)。.PDF 930 流明230 lx12W
NLT3-40-直流-S(591納米)。.PDF 1,240 流明310 lx16W









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