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透明導(dǎo)電石墨烯紡織纖維技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2023-03-24 點(diǎn)擊量:749

透明導(dǎo)電石墨烯紡織纖維技術(shù)

透明柔性電極廣泛用于塑料和玻璃等各種基材。然而,迄今為止,尚未探索紡織基材上的透明電極。單層石墨烯的電氣、機(jī)械和光學(xué)特性使其成為可穿戴電子產(chǎn)品應(yīng)用中的透明電極。在這里,我們報(bào)告了通過(guò)銅箔上的化學(xué)氣相沉積生長(zhǎng)的單層石墨烯向紡織工業(yè)常用纖維的轉(zhuǎn)移。石墨烯涂層光纖的薄層電阻低至每平方~1 kΩ,相當(dāng)于通過(guò)相同的轉(zhuǎn)移過(guò)程在硅基板上獲得的值,光學(xué)透明度僅降低2.3%,同時(shí)在機(jī)械應(yīng)力下保持高穩(wěn)定性。通過(guò)這種方法,我們成功地實(shí)現(xiàn)了紡織電極的第一個(gè)例子,柔性并真正嵌入紗線(xiàn)中。

通過(guò)轉(zhuǎn)移工藝用石墨烯涂覆聚丙烯纖維

以甲烷為碳源,在銅箔上通過(guò)化學(xué)氣相沉積(CVD)合成了大面積單層石墨烯薄膜.生長(zhǎng)后,在石墨烯/銅襯底上旋涂一層薄的聚偏丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜,以在接下來(lái)的銅蝕刻過(guò)程中機(jī)械支撐石墨烯層。銅蝕刻后將石墨烯單層片轉(zhuǎn)移到聚丙烯纖維上,隨后進(jìn)行熱丙酮清洗以去除PMMA層。圖1a說(shuō)明了用石墨烯涂覆紡織纖維的主要步驟。選擇作為基材的纖維呈現(xiàn)出粗糙度為10nm的表面(根據(jù)AFM測(cè)量確定,見(jiàn)圖1b),并且使用了兩種不同類(lèi)型的纖維,膠帶(PP)形式的聚丙烯單絲和聚乳酸(PLA)的生物基單絲。小心地去除PMMA層后,得到涂有連續(xù)石墨烯單層的纖維。石墨烯片與聚合物纖維直接接觸,無(wú)撕裂,符合纖維的支架結(jié)構(gòu)。圖1b-e顯示了石墨烯轉(zhuǎn)移前后纖維的原子力顯微鏡(AFM)圖像。在石墨烯沉積之前,還對(duì)纖維使用了光敏氧化工藝,采用紫外線(xiàn)臭氧(UVO)處理。UVO處理通過(guò)吸收短波長(zhǎng)紫外線(xiàn)輻射及其與臭氧的反應(yīng)來(lái)激發(fā)和解離溶劑分子,從而促進(jìn)溶劑殘留物的消除。這導(dǎo)致污染分子的解吸,使聚合物表面更均勻和光滑,從而獲得更好的石墨烯附著力(圖1f-i)。即使UVO處理增加了PP和PLA纖維的總體粗糙度,我們也觀察到由于聚合過(guò)程引起的較大不規(guī)則性減少了。結(jié)果,纖維表面獲得了更均勻和均勻的結(jié)構(gòu)。UVO處理時(shí)均勻性的這種增益似乎也促進(jìn)了石墨烯片的靜電粘附。事實(shí)上,只有未經(jīng)處理的纖維在石墨烯片上顯示出一些有小撕裂的區(qū)域,這很可能是由于PMMA去除過(guò)程中獨(dú)立石墨烯的損失造成的。這些可以在AFM相位信號(hào)中看到,它清楚地呈現(xiàn)了與剛性和粘附性相關(guān)的兩種不同類(lèi)型的相互作用,這可能對(duì)應(yīng)于石墨烯覆蓋的部分和裸露纖維表面的未覆蓋段(見(jiàn)補(bǔ)充信息)。在有機(jī)單晶中觀察到類(lèi)似的粘附行為,其中厚度小于1μm的晶體通過(guò)靜電力強(qiáng)烈地粘附到不同的基材上,例如玻璃32、無(wú)機(jī)絕緣體(如SiO2或 Al2O333)、金屬膜(例如金、鉑或鎳34)、柔性絕緣體,如聚二甲基硅氧烷 (PDMS)35和其他有機(jī)晶體36如果表面足夠平整37.

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石墨烯轉(zhuǎn)移過(guò)程和AFM成像。

(a) 一般石墨烯轉(zhuǎn)移步驟:CVD在銅上的生長(zhǎng);聚甲基丙烯酸甲醛涂層;銅蝕刻;石墨烯轉(zhuǎn)移到纖維中并去除PMMA。AFM振幅圖像(5×5μm,比例尺為1μm)和粗糙度(Ra)相對(duì)于(b)PP(Ra = 45.10 nm)的纖維長(zhǎng)度在3°處拍攝;(c) 聚丙烯+重力(Ra = 8.3納米);(d) 聚乳酸(Ra = 25納米);(e) 聚乳酸+重力(Ra = 12.3納米);(f) 聚丙烯紫外線(xiàn)(Ra = 8.1 nm);(g) 聚丙烯紫外線(xiàn)+重力(Ra = 7.7納米);(h) 聚乳酸紫外線(xiàn)(Ra = 20.1納米);和 (i) 聚乳酸紫外線(xiàn) + G (Ra = 10.3 nm)。紫外線(xiàn)處理使纖維更粗糙,但也更均勻,促進(jìn)石墨烯粘附。圖(c)顯示石墨烯在未經(jīng)處理的纖維中的覆蓋不完整。


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