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可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

發(fā)布時間:2023-03-20 點擊量:639

可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號,可以濺射各種金屬,包括流行的鎢。 它用于從表面觀察到實驗應用的廣泛領域。 高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺。

裝置特征目標金屬
MSP-40T
是一種多用途的實驗室沉積裝置。 新型號配備了全自動薄膜沉積功能。
高效的薄膜沉積,排氣速度快,操作簡單。 各種金屬薄膜可以通過強磁場沉積。
渦輪泵和隔膜泵可實現(xiàn)清潔和高真空。 是一款性價比低廉的設備。
薄膜沉積靶材:金、銀、鉑、金-鈀、鈀、銅、鉻、鈀、鎳、鐵、鎢、鉬、鉬、鈦、鋁、ITO等
。 對于未列出的目標,請聯(lián)系我們。

用于復雜形狀樣品和超高放大倍率觀察

對于形狀復雜且超高放大倍率觀察200,000倍或以上的樣品,請考慮具有出色環(huán)繞性和細顆粒的鋨鍍膜機。


Os:鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中,因此可以很好地包裹樣品,并且粒徑非常小。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結構的樣品。

W:鎢
顆粒體系與鋨相當,但由于薄膜沉積方法的差異,其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機。


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